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真空电弧离子镀是将镀膜材料作为靶极，借助触发装置使靶表面产生弧光放电，膜材料在电弧作用下，产生无熔池蒸发并沉积在基片上。设备可根据用户要求配置多个小多弧源、大面积矩形电弧源或旋转柱状磁控电弧源，以实现多层复合膜及梯度功能膜的制备。偏压电源采用最新直流脉冲叠加式开关型偏压电源，可实现低温沉积（～200℃），大大扩大了镀膜工艺的应用范围，并且使膜层质量以及膜与基体的结合强度大大提高。
此技术可以制备多种硬质涂层，如TiN、TiC、ZrN、CrN、TiCN、（Ti、Al）N、Al2O3，DLC膜以及多层复合膜等。研究的离子镀仿金装饰镀层经久耐用，广泛用于日用饰品、建筑五金等领域，离子镀TiN系列耐磨涂层及其复合涂层具有高硬度、良好的结合强度和耐磨性，广泛用于高速钢、硬质合金刀具、模具，可显著提高其使用寿命，提高切削效率和加工工件表面质量。可制备MCrAlY等抗腐蚀、抗高温氧化涂层和其他功能涂层，应用于燃汽轮机叶片。
技术特点(包含主要技术指标）
真空电弧离子镀具有以下优点：
(1)蒸发源不产生溶池、绕镀性好：可任意设置于镀膜室适当位置，提高沉积速率使膜层厚度均匀，并可简化基片转动机构
(2)入射粒子能量高：膜的致密度高，强度和耐磨性好。工件和膜界面有原子扩散，膜的附着力高.
(3)离化率高：可达80%以上，镀膜速率高，有利于提高膜基附着性和膜层的性能
(4)一弧多用：电弧既是蒸发源和离化源，又是加热源和离子溅射清洗的离子源。 | 
